? ?光學鏡片的鍍膜技術是整個光學系統的一個重要組成部分，良好的鍍膜技術能改善鏡片的折射率、阿貝數、散射、衍射和化學性能。光學薄膜真空鍍膜技術一般采用物理氣相沉積（PVD）技術，包括熱蒸發、濺射、離子鍍等方法。而在鍍膜前的光學鏡片一般須經過離心力清洗機和超聲波清洗機清洗，但若想要得到超潔凈的基體表面，則需進一步的采用等離子體清洗，離子鍍技術利用了物理氣相沉積技術和高能粒子的物理轟擊作用。開始鍍膜前，用離子束轟擊基片，可以改善基片表面的潔凈度和黏附性。鍍膜過程中，離子束的轟擊使基板表面溫度升高，活化的表面有利于薄膜的成核?？梢酝ㄟ^對離子碰撞的控制來調控薄膜的組分，改善薄膜的性能，提高薄膜在基片表面的覆蓋率和密度。維持反應腔內的高氣壓可以提高薄膜蒸汽分子的散射率，從而在襯底上獲得高均勻性的薄膜。在一些應用中，等離子體可以用于激活反應物種，還可以用來產生在反應沉積過程中更容易被吸附的新的化學生成物。